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hihxl1木虫 (正式写手)
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[求助]
射频磁控溅射薄膜成分问题 已有1人参与
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1. 基本描述： 靶材为MoS2、SiO2等非导电（导电能力弱）的靶材，直径100mm。射频溅射电源起辉，气压0.8Pa，功率300W。 溅射系统：前期采用单极脉冲磁控溅射时，靶材通过压环固定于阴极上，外部有一阳极罩。采用射频电源后将阳极罩去掉不用，直接以图1的方式起辉镀膜。 2. 问题描述及分析： 薄膜成分通过能谱仪测试后，发现薄膜除靶材元素外，一直能够检测到Fe、Cr等污染元素，分析是由于压环（不锈钢）溅射引起的。 如何避免来自压环的溅射，减小甚至消除污染元素来源？  图2 起辉照片.png  图1 射频溅射起辉时靶材的原始状态.jpg |
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 薄膜制备与特性 |
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【答案】应助回帖
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hihxl1: 金币+7, ★★★很有帮助, 你最后的图片说明，您们做纯ZnO也出现Al元素污染？还是做ZAO薄膜呀？没明白~ 2016-07-20 15:40:44
hihxl1: 金币+7, ★★★很有帮助, 你最后的图片说明，您们做纯ZnO也出现Al元素污染？还是做ZAO薄膜呀？没明白~ 2016-07-20 15:40:44
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靶头的防护罩与靶材间距离在您购买仪器时说明书应该说到，说明书上没有，您应该让销售方给您问清楚。 经常灭弧，1、靶头和防护罩间距小了，产生不了高压差 2、真空度太低，产生不了足够的等离子体轰击靶材（您的检测真空计检测的不是真实的腔体真空度，很多人认为泵上面显示真空度是腔体真空度，那是错的。） 3、靶头中的靶材与靶头的极板接触不良，使其闪弧或射频调很大才出弧。 我们这边的靶头在采购来时都要试用多次才能判断是不是能用，但是很少去测溅射下来的样品成分，一般在靶台的周边有点杂质是不计入的 ，控制基底的大小也需要去摸索。 这是我们做的氧化锌。  73154500-6465-49e7-8a5f-cc2eab1bd658.jpg |
9楼2016-07-20 11:31:27
2楼2016-07-19 23:12:22
3楼2016-07-19 23:13:08
4楼2016-07-20 09:23:53