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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 有用过SU8负胶的吗？请教点操作上的问题。
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xujiayu

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
首先湿度一定要控制好，湿度大的话粘附性一点也不好，我们以前也遇到过这个问题。你可以买个除湿机，对着通风橱局部除湿，我们做SU8湿度基本都控制在40%左右。涂胶前最好涂个增粘剂，还是有效果的。
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11楼2016-06-15 10:51:22
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kangg

银虫 (小有名气)
引用回帖:
10楼: Originally posted by 小小小徐 at 2016-06-15 10:38:36
是那种像水垢一样的，用针头拨动就像一小块一小块的胶粒的东西？
...

好像就是你说的这种
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12楼2016-06-15 11:46:41
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kangg

银虫 (小有名气)
引用回帖:
9楼: Originally posted by 美图半导体 at 2016-06-15 09:36:10
对于SU8光刻胶，烘烤温度的时候要严格要求，你是如何烘烤的？是阶梯性烘烤吗？

就是依manual所说，soft bake是两个温度阶梯性，post exposure一步，develop以后hardbake一步。
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13楼2016-06-15 11:49:40
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小小小徐

木虫 (正式写手)
引用回帖:
12楼: Originally posted by kangg at 2016-06-15 11:46:41
好像就是你说的这种...

类似的在显影不彻底，或者显影后没清洗干净的情况下见过，后期再泡就不好去掉了。不知和您情况一样不。是不是曝光过度了？

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14楼2016-06-15 11:57:49
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babyoflion

金虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
系统浏览了下，包括虫友的回复；湿度问题是要解决的，但是还有一点如果你们是用的2000.x的系列胶的话应该是很薄的才对，对于这种几百纳米的胶来说阶梯式烘烤相对来说米有那么重要，当然阶梯式烘烤肯定也没有错；这种胶的薄厚对于工艺的要求严谨性差别是非常大的；针对你说的问题，第一个白带的问题，个人认为是中间溶剂过度方面造成的，仔细看下每一步里面是否有不相容的情况出现，或者每步的溶剂（显影液，清洗液等）中去水的纯度，粘附性问题，SU8理论上粘附性很好的，这个HMDS一般都不用的，因为机理是不同的；脱胶的问题因为我看了下你的图片，就是剩下来的线条也很粗糙，不光洁，综合分析来看很有可能是中烘或者曝光不足导致的；建议增加中烘的温度或者时间或者曝光能量来调整；希望有用哈；大中午有点困，想到哪打到哪，你自己慢慢看吧 见谅了
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15楼2016-06-15 12:46:24
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babyoflion

金虫 (著名写手)
当然显影的时间也要控制下，不能太过度显影了，如果线条比较小（10u以下）的时候！
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16楼2016-06-15 12:48:27
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kangg

银虫 (小有名气)
引用回帖:
15楼: Originally posted by babyoflion at 2016-06-15 12:46:24
系统浏览了下，包括虫友的回复；湿度问题是要解决的，但是还有一点如果你们是用的2000.x的系列胶的话应该是很薄的才对，对于这种几百纳米的胶来说阶梯式烘烤相对来说米有那么重要，当然阶梯式烘烤肯定也没有错；这种 ...

谢谢！我们用的不是2000.5的我的意思是几个SU8-2000系列的胶，用的最多的是2025。白带是出现在干的刚post exposure bake之后倒进去显影液的时候，这时候还没有任何其他溶剂引入，这个东西直接就溶解不掉了，用什么都溶不掉。剩下的线条看起来粗糙可能是因为我的mask是胶片打印的，这个线是15um宽，对于激光照排机来讲打印出来的边缘就是粗糙的，在体视镜的斜光源照射下拍摄就尤其明显。我们拍截面调试过曝光量，曝光能量应该是够的。
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17楼2016-06-15 14:39:51
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kangg

银虫 (小有名气)
引用回帖:
14楼: Originally posted by 小小小徐 at 2016-06-15 11:57:49
类似的在显影不彻底，或者显影后没清洗干净的情况下见过，后期再泡就不好去掉了。不知和您情况一样不。是不是曝光过度了？
...

白带是出现在干的刚post exposure bake之后倒进去显影液的时候，这时候还没有任何其他溶剂引入，这个东西直接就溶解不掉了，用developer泡很久也不掉，常用溶剂都溶不掉。
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18楼2016-06-15 14:41:52
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小小小徐

木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

图看的不太清，也不敢瞎说。要是能刮掉，这么看有点像水垢似的，我之前在硅模具上抹过洗洁精，干了也有点像这样的。要是水性的东西，您试试水洗能把它冲掉不，然后还是先解决湿度和胶的干燥问题试试。

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19楼2016-06-15 15:06:38
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ffffjjjj

金虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
1.湿度的问题，建议买一个干燥柜，存放洗净烘干的硅片。
2.硅片的清洗，使用80度左右的piraha溶液浸泡1小时，而不是用浓硫酸浸泡；
3.烘烤：很薄的胶不需要阶梯烘烤，厚胶才需要；
4.显影：问题来了，建议使用新的显影液进行显影，显影液不要重复使用！显影液不要重复使用！显影液不要重复使用！重要的问题说三遍。
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20楼2016-06-15 15:11:25
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