【答案】应助回帖

21楼2016-06-15 15:15:04

648582818

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【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1

1.双层曝光的上层？下层是什么东西。。。有可能是光刻胶粘在下层上或者怎么了吧。。
按道理没曝光的部分，都可以被显影液洗掉的。。。你可以找一片片子看看spin coat上SU-8 前后烘完直接泡显影液是不是也是这样。。。

显影有人推荐超声。。如果结构没被破坏的话可以试试。。（我不太喜欢用）

2. 粘不牢。。除了衬底处理，加大曝光剂量试试。。。

菲林的mask不是太好。。。感觉上跟玻璃还是有区别。。。

我做SU-8在polyU的clean room做的，如果想试试排除什么原因也欢迎来做O(∩_∩)O~

22楼2016-06-15 16:41:00

小小小徐

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20楼: Originally posted by ffffjjjj at 2016-06-15 15:11:25
1.湿度的问题，建议买一个干燥柜，存放洗净烘干的硅片。
2.硅片的清洗，使用80度左右的piraha溶液浸泡1小时，而不是用浓硫酸浸泡；
3.烘烤：很薄的胶不需要阶梯烘烤，厚胶才需要；
4.显影：问题来了，建议使用新 ...

请问用上次用过的显影液问题主要在显影效率低还是对图案有损伤呢？谢谢您

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23楼2016-06-15 18:09:14

kangg

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引用回帖:

非常感谢！
我们的硅片使用前才现烘干的，提前一天放在浓硫酸里，使用前有时候也配piranha solution洗，但是不是每次都这么干，因为比较麻烦，而且80度的piranha一直分解，不知一小时确实必要吗？不知道这个是不是很关键，我们下次倒是可以再试试。有时候使用前还打plasma或者Ozone，也没看出太大区别。不管前面怎么处理，最后都是150度烘一段时间，然后马上放spincoater上用，但是同学说感觉区别不是很大。

我们确实不阶梯烘薄胶的，而且对厚胶其实还梯度升温的。

显影液为什么不能重复使用？我以前在几个cleanroom大家一般都是重复使用的，滤掉沉淀回收旧液，刚开始使用旧液，后期换成fresh developer，最后不会看到沉淀。如果始终用旧液最后会看到残余沉淀。

24楼2016-06-15 19:15:28

kangg

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21楼: Originally posted by ffffjjjj at 2016-06-15 15:15:04
5.曝光剂量。曝光强度确保够，逐渐改变改变曝光时间。

谢谢，这个我们切截面优化过的。

25楼2016-06-15 19:16:59

kangg

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22楼: Originally posted by 648582818 at 2016-06-15 16:41:00
1.双层曝光的上层？下层是什么东西。。。有可能是光刻胶粘在下层上或者怎么了吧。。
按道理没曝光的部分，都可以被显影液洗掉的。。。你可以找一片片子看看spin coat上SU-8 前后烘完直接泡显影液是不是也是这样。 ...

您是polyU的？幸会幸会。

双层曝光下层也是SU8，两层。
我们看见洗不掉的沉淀这个现象比较随机，按我的理解是即使spin coat上SU-8 前后烘完直接泡显影液也是这样。我会再和同学确认一下。我们下次也超声一把试试，我以前在UST也试过超声不过有时候就掉了。

加大曝光量会造成结构变肥，这个菲林mask就是跟玻璃不一样，会有散射光。所以我们也不敢太大曝光量。我们实在不行的时候就是先甩一层底，再做feature，一般也就不掉了。你们polyU cleanroom最近室内湿度是多少？话说以前在美国加州的cleanroom还有人提到湿度影响，那里比香港干多了已经。。。

26楼2016-06-15 19:23:23

babyoflion

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17楼: Originally posted by kangg at 2016-06-15 14:39:51
谢谢！我们用的不是2000.5的我的意思是几个SU8-2000系列的胶，用的最多的是2025。白带是出现在干的刚post exposure bake之后倒进去显影液的时候，这时候还没有任何其他溶剂引入，这个东西直接就溶解不掉了，用什么 ...

2025这款胶我也用过，但是没出现你说的这种情况啊，，，，

27楼2016-06-15 20:09:16