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biking金虫 (正式写手)
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物理方法镀膜求助 已有2人参与
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各位好： 我目前有一碳化物，现在想要通过物理方法将该碳化物沉积到Si基底上面，要求是在不改变碳化物化学结构的前提下，沉积到基底表面。 请教各位有什么较好的方法？ 我目前了解的有真空蒸发和溅射沉积，但是有些疑问，这两种方法好像都是把分子蒸发成了离子或原子，那这样再沉积到基底表面时候会不会改变分子的结构呢？？ 对膜技术不是很了解，有说辞不当的地方敬请谅解 |
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biking
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