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biking金虫 (正式写手)
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[求助]
物理方法镀膜求助 已有2人参与
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各位好: 我目前有一碳化物,现在想要通过物理方法将该碳化物沉积到Si基底上面,要求是在不改变碳化物化学结构的前提下,沉积到基底表面。 请教各位有什么较好的方法? 我目前了解的有真空蒸发和溅射沉积,但是有些疑问,这两种方法好像都是把分子蒸发成了离子或原子,那这样再沉积到基底表面时候会不会改变分子的结构呢?? 对膜技术不是很了解,有说辞不当的地方敬请谅解 |
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6楼2016-04-28 11:38:26
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PVD 发自小木虫Android客户端 |
2楼2016-04-25 08:26:05
伽鲁特
至尊木虫 (著名写手)
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3楼2016-04-25 18:06:54
biking
金虫 (正式写手)
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4楼2016-04-25 21:24:30













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