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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 磁控溅射时加负偏压对薄膜结晶度的影响
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太阳追逐者

新虫 (初入文坛)
你对结晶度的定义是什么？这个难道不是用XRD判断的吗？是指晶粒的大小吗？
负偏压主要是导致基体温度升高，是温度升高导致的晶粒大小改变。
溅射本来就重复性差，你单靶靶材的XRD,SEM图像有没有.
想改善晶粒大小我觉得还是需要RTP固态源硫化，或者H2S硫化。
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51楼2016-07-02 15:21:43
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fpei_csu

银虫 (小有名气)
增加负偏压可以增加离化率，同时增加离子撞击到基材表面的能量，能量增加了就可以促进晶粒的形核长大，使得结晶更加完整，不过最好还是提高一下沉积温度更明显一些

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52楼2016-07-18 10:06:22
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