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磁控溅射时加负偏压对薄膜结晶度的影响 已有2人参与
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本菇凉使用CZTS靶材磁控溅射CZTS时，发现溅射后的CZTS薄膜结晶度很差，晶粒度特别小，老板让我下次溅射的时候加上一定的负偏压试试，不知道这个负偏压对溅射过程有哪些影响，能不能提高溅射薄膜的结晶度，多谢各位大侠啦~ 大恩不言谢，小女子直接   薄膜表面形貌.jpg |
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 薄膜制备与特性 | 薄膜材料和器件制备 |
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增加负偏压可以增加离化率，同时增加离子撞击到基材表面的能量，能量增加了就可以促进晶粒的形核长大，使得结晶更加完整，不过最好还是提高一下沉积温度更明显一些 发自小木虫Android客户端 |
52楼2016-07-18 10:06:22