| 查看: 2972 | 回复: 51 | |||
| 当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖 | |||
[求助]
磁控溅射时加负偏压对薄膜结晶度的影响 已有2人参与
|
|||
|
本菇凉使用CZTS靶材磁控溅射CZTS时，发现溅射后的CZTS薄膜结晶度很差，晶粒度特别小，老板让我下次溅射的时候加上一定的负偏压试试，不知道这个负偏压对溅射过程有哪些影响，能不能提高溅射薄膜的结晶度，多谢各位大侠啦~ 大恩不言谢，小女子直接   薄膜表面形貌.jpg |
回复此楼» 猜你喜欢
济南大学国家优青课题组 2026 调剂招生来啦
已经有0人回复
-
武汉纺织大学_化学院官方调剂群-院士团队招生-学生自由度高发展好-欢迎各位同学
已经有0人回复
-
金属材料论文润色/翻译怎么收费?
已经有120人回复
-
西华大学 化学 调剂有名额
已经有0人回复
-
上海应用技术大学招生调剂研究生
已经有8人回复
-
南京晓庄学院绿色能源材料团队招生
已经有0人回复
-
南京晓庄学院绿色能源材料团队招生
已经有0人回复
-
北方工业大学储能技术-02电化学储能与氢能方向招收2026级二次调剂学生
已经有0人回复
|
增加负偏压可以增加离化率，同时增加离子撞击到基材表面的能量，能量增加了就可以促进晶粒的形核长大，使得结晶更加完整，不过最好还是提高一下沉积温度更明显一些 发自小木虫Android客户端 |
52楼2016-07-18 10:06:22
chenjin
铁杆木虫 (著名写手)
- 应助: 3 (幼儿园)
- 金币: 5146.8
- 散金: 133
- 红花: 6
- 帖子: 2033
- 在线: 450.7小时
- 虫号: 102844
- 注册: 2005-11-14
- 专业: 凝聚态物性 II ：电子结构
2楼2016-03-25 21:44:27
3楼2016-03-25 22:50:47
4楼2016-03-26 09:34:49
