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磁控溅射时加负偏压对薄膜结晶度的影响 已有2人参与
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本菇凉使用CZTS靶材磁控溅射CZTS时，发现溅射后的CZTS薄膜结晶度很差，晶粒度特别小，老板让我下次溅射的时候加上一定的负偏压试试，不知道这个负偏压对溅射过程有哪些影响，能不能提高溅射薄膜的结晶度，多谢各位大侠啦~ 大恩不言谢，小女子直接   薄膜表面形貌.jpg |
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chenjin
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2楼2016-03-25 21:44:27
4楼2016-03-26 09:34:49
dorrnm
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6楼2016-03-26 16:42:13
dorrnm
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【答案】应助回帖
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yangyueyf: 金币+20 2016-03-27 08:23:59
yangyueyf: 金币+20 2016-03-27 08:23:59
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书有芯片制造，半导体制造技术，刻蚀那部分有讲 网上可以搜一下伯克利大学的semiconductor process课件的刻蚀部分 或者网上搜一下磁控溅射机台的结构，应该也能零零碎碎找到一些 发自小木虫Android客户端 |
8楼2016-03-26 21:48:20
cord 
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9楼2016-03-26 22:27:05
aaron5235
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