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chichister金虫 (正式写手)
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[求助]
二氧化硅上直接镀金，如何解决粘附性差的问题？ 已有1人参与
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| 二氧化硅上直接镀金的问题：金薄膜对二氧化硅衬底的粘附性很差，一般要做过渡层，像钛钨、铬等，最近尝试先镀了20nm的钛做过渡层，然后镀金，蒸镀方式为电子书蒸发。但后续的工艺中依然有金薄膜严重脱落的问题，请教各位虫友，有什么办法可增加金与二氧化硅之间的粘附性？或者用哪种金属替代钛做缓冲层较好？ |
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《草原的风》
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【答案】应助回帖
★ ★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
chichister: 金币+5, ★★★很有帮助, 分析很专业，深入透彻。 2016-02-22 15:32:10
感谢参与，应助指数 +1
chichister: 金币+5, ★★★很有帮助, 分析很专业，深入透彻。 2016-02-22 15:32:10
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个人看法，仅供参考。 二氧化硅是非金属，金是金属，非金属材料与金属之间的结合主要是机械结合，两者间的机械结合，其结合力比金属间结合力差是正常的。为了增大其结合力，个人觉得对二氧化硅的欲镀表面进行粗化是个有效方法，其他的，比如说消除二氧化硅的内应力、表面除油处理、进行预镀处理等等各方面也可以提高结合力。如果非要进行过渡层的话，可以采用一些面心立方结构的金属为佳，比如铜、镍、银之类的金属，因为金本身就是fcc 晶格，像钛、钨、铬之类的室温下是bcc 结构，本身就与fcc 晶格的金不是同类晶体结构，因此非金属材料与金属之间的结合力不佳基础上更加不佳，故而更易脱落。 |
3楼2016-02-20 22:58:05
EdwithClaire
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2楼2016-02-20 14:13:33
chichister
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4楼2016-02-22 12:27:44
chichister
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5楼2016-02-22 12:30:58
