[求助] 去除光刻胶上电极 已有2人参与

2楼: Originally posted by dorrnm at 2015-11-19 00:41:53
你用lift off工艺的时候丙酮里会有金属污染的，本来就不会太干净。
可以先镀两层金属膜，然后光刻图形，干法刻掉不要的金属，这样干净

4楼: Originally posted by yswyx at 2015-11-19 14:15:06
用图来说话。
你确认那个微米级别的金和铬下面是光刻胶？？？
这个情况你要告诉大家你用的是什么胶，否则不好判断。
你可以用NMP试试，做的时候要做好保护。
如果你的器件不怕碱的话，也可以用浓度高一些的碱液 ...

7楼: Originally posted by yswyx at 2015-11-20 17:20:32
怎么能用1805来做lift off呢？要么用负胶，要么用双层胶。
NMP就是NMP，去胶液的主要成分。...

10楼: Originally posted by 小不忍则乱大谋 at 2015-12-03 16:42:54
帮不上你的忙，问你一个问题，镀Cr时需要注意什么问题吗？一般镀多厚？我从没接触过镀膜，最近想给自己的一个样品上镀电极，看网上写着先要镀一层Cr或Ti。