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912694096

铜虫 (正式写手)

[求助] 去除光刻胶上电极 已有2人参与

各位亲,,

第一步:将光刻胶旋涂在硅片衬底上;第二步:在光刻胶上磁控溅射Au和Cr;第三步,泡在丙酮里去除在光刻胶上的金和铬;

发现:几个微米级别的很小的金和铬去不掉;

问题:还可以怎样去除?

结构从上到下为Au,Cr,光刻胶,SiO2,Si片
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yswyx

专家顾问 (著名写手)


引用回帖:
5楼: Originally posted by 912694096 at 2015-11-19 22:52:56
确定因为是先涂了光刻胶
我用的胶是S1805
另外,,,NMP是什么...

怎么能用1805来做lift off呢?要么用负胶,要么用双层胶。
NMP就是NMP,去胶液的主要成分。
7楼2015-11-20 17:20:32
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dorrnm

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★
感谢参与,应助指数 +1
912694096: 金币+5 2015-11-20 14:03:21
你用lift off工艺的时候丙酮里会有金属污染的,本来就不会太干净。
可以先镀两层金属膜,然后光刻图形,干法刻掉不要的金属,这样干净

发自小木虫Android客户端
2楼2015-11-19 00:41:53
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912694096

铜虫 (正式写手)

引用回帖:
2楼: Originally posted by dorrnm at 2015-11-19 00:41:53
你用lift off工艺的时候丙酮里会有金属污染的,本来就不会太干净。
可以先镀两层金属膜,然后光刻图形,干法刻掉不要的金属,这样干净

干法是等离子体刻蚀吗
3楼2015-11-19 14:06:28
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yswyx

专家顾问 (著名写手)


【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
用图来说话。
你确认那个微米级别的金和铬下面是光刻胶???
这个情况你要告诉大家你用的是什么胶,否则不好判断。
你可以用NMP试试,做的时候要做好保护。
如果你的器件不怕碱的话,也可以用浓度高一些的碱液。
4楼2015-11-19 14:15:06
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