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xuzhixiao铁杆木虫 (著名写手)
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关于镁热还原二氧化硅 已有2人参与
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看了一些文献，发现一般是这样处理的： 镁粉与二氧化硅研磨后，在氢氩混合气下650℃反应，冷却后用HCl洗掉MgO，后用HF洗掉残余的SiO2 那么问题来了： 1, 为什么可以用HF洗SiO2, HF不是也会与Si反应吗？ 2, 如何表征材料中是否有残留的SiO2(无定形，XRD看不出来)? IR? Raman? XPS?  3290156.png |
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xuzhixiao
铁杆木虫 (著名写手)
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