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xuzhixiao

铁杆木虫 (著名写手)

Science, Technology and Art

[求助] 关于镁热还原二氧化硅已有2人参与

看了一些文献,发现一般是这样处理的:
镁粉与二氧化硅研磨后,在氢氩混合气下650℃反应,冷却后用HCl洗掉MgO,后用HF洗掉残余的SiO2
那么问题来了:
1, 为什么可以用HF洗SiO2, HF不是也会与Si反应吗?
2, 如何表征材料中是否有残留的SiO2(无定形,XRD看不出来)? IR? Raman? XPS?
关于镁热还原二氧化硅
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peterflyer

木虫之王 (文学泰斗)

peterflyer


【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与,应助指数 +1
xuzhixiao: 金币+25, ★★★很有帮助 2016-01-17 13:33:03
1、既然用氢氟酸清洗,氢氟酸肯定也会与硅发生反应,但估计氢氟酸和二氧化硅的反应速度应该远大于与硅的反应速度,否则这种工艺是不可行的;
2、可用氧氮分析仪测试产物的含氧量。如果含氧,说明含有二氧化硅,无论属于定型的还是非定型的二氧化硅。
7楼2015-11-18 14:46:56
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xuzhixiao

铁杆木虫 (著名写手)

5楼2015-11-18 08:54:34
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xuzhixiao

铁杆木虫 (著名写手)

Science, Technology and Art

引用回帖:
7楼: Originally posted by peterflyer at 2015-11-18 14:46:56
1、既然用氢氟酸清洗,氢氟酸肯定也会与硅发生反应,但估计氢氟酸和二氧化硅的反应速度应该远大于与硅的反应速度,否则这种工艺是不可行的;
2、可用氧氮分析仪测试产物的含氧量。如果含氧,说明含有二氧化硅,无论 ...

1,估计是吧
2,不光是二氧化硅,还含有其他的材料,也含氧。我觉得IR 或 Raman应该行
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8楼2015-11-18 16:59:20
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soulivy

木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

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感谢参与,应助指数 +1
xuzhixiao: 金币+25, ★★★很有帮助 2016-01-17 13:33:15
原先做过用氢氟酸清除单质硅方面的实验,单质硅虽然和氢氟酸反应但很缓慢。为了加速氢氟酸和硅的反应,一般都是往氢氟酸溶液中添加氧化性酸(如硝酸)并且适当加热。但二氧化硅和氢氟酸的反应相对较为容易。
11楼2015-11-19 18:59:11
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