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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 学术讨论 » 关于镁热还原二氧化硅
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xuzhixiao

铁杆木虫 (著名写手)

Science, Technology and Art

[求助] 关于镁热还原二氧化硅 已有2人参与

看了一些文献，发现一般是这样处理的：
镁粉与二氧化硅研磨后，在氢氩混合气下650℃反应，冷却后用HCl洗掉MgO，后用HF洗掉残余的SiO2
那么问题来了：
1, 为什么可以用HF洗SiO2, HF不是也会与Si反应吗？
2, 如何表征材料中是否有残留的SiO2(无定形，XRD看不出来)? IR? Raman? XPS?
关于镁热还原二氧化硅
3290156.png
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”五爱青年“：爱科技，爱音乐，爱IT，爱阅读，爱健身
1楼 2015-11-17 14:17:00
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peterflyer

木虫之王 (文学泰斗)

peterflyer

【答案】应助回帖

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感谢参与，应助指数 +1
xuzhixiao: 金币+25, ★★★很有帮助 2016-01-17 13:33:03
1、既然用氢氟酸清洗，氢氟酸肯定也会与硅发生反应，但估计氢氟酸和二氧化硅的反应速度应该远大于与硅的反应速度，否则这种工艺是不可行的；
2、可用氧氮分析仪测试产物的含氧量。如果含氧，说明含有二氧化硅，无论属于定型的还是非定型的二氧化硅。
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7楼2015-11-18 14:46:56
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xuzhixiao

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2楼2015-11-17 16:27:11
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xuzhixiao

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3楼2015-11-17 17:25:18
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4楼2015-11-17 21:04:06
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xuzhixiao

铁杆木虫 (著名写手)
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发自小木虫Android客户端
5楼2015-11-18 08:54:34
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xuzhixiao

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6楼2015-11-18 11:53:10
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xuzhixiao

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Science, Technology and Art
引用回帖:
7楼: Originally posted by peterflyer at 2015-11-18 14:46:56
1、既然用氢氟酸清洗，氢氟酸肯定也会与硅发生反应，但估计氢氟酸和二氧化硅的反应速度应该远大于与硅的反应速度，否则这种工艺是不可行的；
2、可用氧氮分析仪测试产物的含氧量。如果含氧，说明含有二氧化硅，无论 ...

1，估计是吧
2，不光是二氧化硅，还含有其他的材料，也含氧。我觉得IR 或 Raman应该行
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”五爱青年“：爱科技，爱音乐，爱IT，爱阅读，爱健身
8楼2015-11-18 16:59:20
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xuzhixiao

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9楼2015-11-19 14:48:19
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xuzhixiao

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10楼2015-11-19 17:24:43
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