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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 学术讨论 » 关于镁热还原二氧化硅
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soulivy

木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
xuzhixiao: 金币+25, ★★★很有帮助 2016-01-17 13:33:15
原先做过用氢氟酸清除单质硅方面的实验，单质硅虽然和氢氟酸反应但很缓慢。为了加速氢氟酸和硅的反应，一般都是往氢氟酸溶液中添加氧化性酸（如硝酸）并且适当加热。但二氧化硅和氢氟酸的反应相对较为容易。
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11楼2015-11-19 18:59:11
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xuzhixiao

铁杆木虫 (著名写手)

Science, Technology and Art
引用回帖:
11楼: Originally posted by soulivy at 2015-11-19 18:59:11
原先做过用氢氟酸清除单质硅方面的实验，单质硅虽然和氢氟酸反应但很缓慢。为了加速氢氟酸和硅的反应，一般都是往氢氟酸溶液中添加氧化性酸（如硝酸）并且适当加热。但二氧化硅和氢氟酸的反应相对较为容易。

好的，好的，我明白了，可是为什么课本里不写呢
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”五爱青年“：爱科技，爱音乐，爱IT，爱阅读，爱健身
12楼2015-11-19 19:39:33
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chenfeng0563

捐助贵宾 (初入文坛)
我用镁热还原含碳的SiO2，为什么会有很多杂质，比如SiC和硅化镁怎么控制条件呢？反应温度最合适是多少度呢？多长时间呢？
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13楼2016-04-01 09:55:53
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ljt200815

新虫 (初入文坛)
你好~ 我想请教一下，二氧化硅与镁粉怎么混合均匀，用研钵研磨？会不会炸了~
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14楼2017-11-19 22:17:23
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zhaoyin82

捐助贵宾 (职业作家)

MSc
引用回帖:
13楼: Originally posted by chenfeng0563 at 2016-04-01 09:55:53
我用镁热还原含碳的SiO2，为什么会有很多杂质，比如SiC和硅化镁怎么控制条件呢？反应温度最合适是多少度呢？多长时间呢？

时间 温度 包括原料的质量都很难控制的 总之干扰因素很多
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用SEM看世界
15楼2017-12-15 09:45:40
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zhaoyin82

捐助贵宾 (职业作家)

MSc
引用回帖:
14楼: Originally posted by ljt200815 at 2017-11-19 22:17:23
你好~ 我想请教一下，二氧化硅与镁粉怎么混合均匀，用研钵研磨？会不会炸了~

每立方米超过镁粉的饱和量 肯定爆
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用SEM看世界
16楼2017-12-15 09:46:36
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朋鸟

木虫 (小有名气)
我想问一下，镁热还原二氧化硅的保护气氛一般都是氩气，但有些文献里用了氢氩混合气，气氛中引入氢气对镁热还原什么好处呢？
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17楼2018-03-17 13:55:21
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小木虫闯江湖

木虫 (正式写手)
很早的帖子了，正好看到了，也回复一下。
硅在氢氟酸及硝酸同时存在条件下会剧烈反应，硅和氢氟酸及硝酸单独均不发生反应，这应该是用HF洗SiO2的原因所在。
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淡定从容
18楼2022-02-28 08:12:27
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