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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 光刻三角型的问题求助！！！
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lubin888

禁虫 (初入文坛)
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1楼 2015-11-02 15:12:14
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PXweng

新虫 (初入文坛)
正胶的特性，中间切SEM应该像个火山口凹下去，呵呵

发自小木虫IOS客户端
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有事电话说嘛13925288900
5楼2015-12-03 16:07:34
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wxa616

银虫 (小有名气)
模板和光胶直接间隙太大。应该是曝光机的问题。你们的曝光机可以做到多少的精度呢
赞一下(1人) 回复此楼
无咎无誉
2楼2015-11-02 15:46:13
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lubin888

禁虫 (初入文坛)
本帖内容被屏蔽
3楼2015-11-03 14:57:58
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yswyx

专家顾问 (著名写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
lubin888: 金币+10, ★★★很有帮助 2015-11-11 12:40:40
引用回帖:
3楼: Originally posted by lubin888 at 2015-11-03 14:57:58
您好，我们这边曝光机精度可以做到0.5um。您说的我没有太明白，掩膜版和光刻胶之间间隙太大，是接触曝光没有接触好吗？...

没有接触式曝光机能曝到0.5um的，都是骗人的。
你这个接触不好使肯定的，但就算接触好了也没用。
5um的三角，用接触式曝光机做不好的。而且你用的3100的分辨率本身也不够。改用stepper吧。
赞一下 回复此楼
4楼2015-11-04 16:19:16
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