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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 磁控溅射制备薄膜
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shl0920

木虫 (正式写手)

[求助] 磁控溅射制备薄膜 已有2人参与

各位虫友，我最近在做磁控溅射制备CeO2膜的时候选用不锈钢基底，不知道基底不锈钢是不是也会被溅射出来一部分污染我需要得到的CeO2膜啊？不知道有没有相关的文献说明基底也被溅射破坏的问题？恳请各位虫友帮忙，不胜感谢！
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1楼 2015-08-25 10:10:01
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纳米材料753

木虫之王 (文学泰斗)

光岳之巅

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
如果靶材的厚度足够的话，到不了基底的，放靶材的底座不都是不锈钢的么
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进取……永无止境！
2楼2015-08-25 10:36:33
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shl0920

木虫 (正式写手)
引用回帖:
2楼: Originally posted by 纳米材料753 at 2015-08-25 10:36:33
如果靶材的厚度足够的话，到不了基底的，放靶材的底座不都是不锈钢的么

谢谢的您回帖，可能我的意思没表述清楚，我的靶材是金属Ce靶材，想要通过反应磁控溅射在不锈钢基底上生长CeO2薄膜，但是CeO2薄膜太薄了，下面的不锈钢基底会不会也会因为被溅射出来污染我的CeO2薄膜？就是磁控溅射中的阳极基底会不会也会被溅射出来一部分啊？
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3楼2015-08-25 10:46:54
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纳米材料753

木虫之王 (文学泰斗)

光岳之巅
引用回帖:
3楼: Originally posted by shl0920 at 2015-08-25 10:46:54
谢谢的您回帖，可能我的意思没表述清楚，我的靶材是金属Ce靶材，想要通过反应磁控溅射在不锈钢基底上生长CeO2薄膜，但是CeO2薄膜太薄了，下面的不锈钢基底会不会也会因为被溅射出来污染我的CeO2薄膜？就是磁控溅射 ...

呵呵，终于明白了，在起辉的初始阶段，应该会有影响
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4楼2015-08-25 10:51:56
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shl0920

木虫 (正式写手)
引用回帖:
4楼: Originally posted by 纳米材料753 at 2015-08-25 10:51:56
呵呵，终于明白了，在起辉的初始阶段，应该会有影响...

是不是说异常辉光放电区域进行溅射时，没有反向偏压的条件下，基片就不会出现被溅射出来的情况？好像也不能太确定吧？理论上是不是这样的？
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5楼2015-08-25 14:53:36
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Friend007

银虫 (知名作家)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
楼主不用太担心这个问题 除非有特殊要求，基片受到荷能粒子轰击是正常的，如果荷能粒子能量比较高，理论上会把不锈钢基片溅射出部分杂质，但是当膜层比较厚时，就好了

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shl0920
6楼2015-08-25 19:07:56
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shl0920

木虫 (正式写手)
送红花一朵
引用回帖:
6楼: Originally posted by Friend007 at 2015-08-25 19:07:56
楼主不用太担心这个问题 除非有特殊要求，基片受到荷能粒子轰击是正常的，如果荷能粒子能量比较高，理论上会把不锈钢基片溅射出部分杂质，但是当膜层比较厚时，就好了

如果我想在要沉积的基片前放置一个镂空一定形状的挡板（不锈钢或者其他非磁性体），以此在基片上得到一定形状的很薄的溅射膜涂层，是不是无论选择什么挡板，挡板中的物质都有可能污染我需要得到的膜涂层呢？如果可能的话希望挡板不容易被气氛所刻蚀一般选哪种材质的更好一些呢？
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7楼2015-08-26 15:19:02
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Friend007

银虫 (知名作家)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
shl0920: 金币+20, ★有帮助 2015-08-31 17:18:16
引用回帖:
7楼: Originally posted by shl0920 at 2015-08-26 15:19:02
如果我想在要沉积的基片前放置一个镂空一定形状的挡板（不锈钢或者其他非磁性体），以此在基片上得到一定形状的很薄的溅射膜涂层，是不是无论选择什么挡板，挡板中的物质都有可能污染我需要得到的膜涂层呢？如果可 ...

找那些溅射阈值比较高的材料做挡板，如Ti。理论上如此，实际上不锈钢板估计也行。楼主可以做实验对比一下

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8楼2015-08-26 18:19:01
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