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shl0920

木虫 (正式写手)

[求助] 磁控溅射制备薄膜 已有2人参与

各位虫友,我最近在做磁控溅射制备CeO2膜的时候选用不锈钢基底,不知道基底不锈钢是不是也会被溅射出来一部分污染我需要得到的CeO2膜啊?不知道有没有相关的文献说明基底也被溅射破坏的问题?恳请各位虫友帮忙,不胜感谢!
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shl0920

木虫 (正式写手)

引用回帖:
4楼: Originally posted by 纳米材料753 at 2015-08-25 10:51:56
呵呵,终于明白了,在起辉的初始阶段,应该会有影响...

是不是说异常辉光放电区域进行溅射时,没有反向偏压的条件下,基片就不会出现被溅射出来的情况?好像也不能太确定吧?理论上是不是这样的?
5楼2015-08-25 14:53:36
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纳米材料753

木虫之王 (文学泰斗)

光岳之巅

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
如果靶材的厚度足够的话,到不了基底的,放靶材的底座不都是不锈钢的么
进取……永无止境!
2楼2015-08-25 10:36:33
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shl0920

木虫 (正式写手)

引用回帖:
2楼: Originally posted by 纳米材料753 at 2015-08-25 10:36:33
如果靶材的厚度足够的话,到不了基底的,放靶材的底座不都是不锈钢的么

谢谢的您回帖,可能我的意思没表述清楚,我的靶材是金属Ce靶材,想要通过反应磁控溅射在不锈钢基底上生长CeO2薄膜,但是CeO2薄膜太薄了,下面的不锈钢基底会不会也会因为被溅射出来污染我的CeO2薄膜?就是磁控溅射中的阳极基底会不会也会被溅射出来一部分啊?
3楼2015-08-25 10:46:54
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纳米材料753

木虫之王 (文学泰斗)

光岳之巅

引用回帖:
3楼: Originally posted by shl0920 at 2015-08-25 10:46:54
谢谢的您回帖,可能我的意思没表述清楚,我的靶材是金属Ce靶材,想要通过反应磁控溅射在不锈钢基底上生长CeO2薄膜,但是CeO2薄膜太薄了,下面的不锈钢基底会不会也会因为被溅射出来污染我的CeO2薄膜?就是磁控溅射 ...

呵呵,终于明白了,在起辉的初始阶段,应该会有影响
进取……永无止境!
4楼2015-08-25 10:51:56
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