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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 磁控溅射制备薄膜
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shl0920

木虫 (正式写手)

[求助] 磁控溅射制备薄膜 已有2人参与

各位虫友，我最近在做磁控溅射制备CeO2膜的时候选用不锈钢基底，不知道基底不锈钢是不是也会被溅射出来一部分污染我需要得到的CeO2膜啊？不知道有没有相关的文献说明基底也被溅射破坏的问题？恳请各位虫友帮忙，不胜感谢！
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1楼 2015-08-25 10:10:01
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Friend007

银虫 (知名作家)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
楼主不用太担心这个问题 除非有特殊要求，基片受到荷能粒子轰击是正常的，如果荷能粒子能量比较高，理论上会把不锈钢基片溅射出部分杂质，但是当膜层比较厚时，就好了

[ 发自小木虫客户端 ]
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shl0920
6楼2015-08-25 19:07:56
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纳米材料753

木虫之王 (文学泰斗)

光岳之巅

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
如果靶材的厚度足够的话，到不了基底的，放靶材的底座不都是不锈钢的么
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进取……永无止境！
2楼2015-08-25 10:36:33
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shl0920

木虫 (正式写手)
引用回帖:
2楼: Originally posted by 纳米材料753 at 2015-08-25 10:36:33
如果靶材的厚度足够的话，到不了基底的，放靶材的底座不都是不锈钢的么

谢谢的您回帖，可能我的意思没表述清楚，我的靶材是金属Ce靶材，想要通过反应磁控溅射在不锈钢基底上生长CeO2薄膜，但是CeO2薄膜太薄了，下面的不锈钢基底会不会也会因为被溅射出来污染我的CeO2薄膜？就是磁控溅射中的阳极基底会不会也会被溅射出来一部分啊？
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3楼2015-08-25 10:46:54
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纳米材料753

木虫之王 (文学泰斗)

光岳之巅
引用回帖:
3楼: Originally posted by shl0920 at 2015-08-25 10:46:54
谢谢的您回帖，可能我的意思没表述清楚，我的靶材是金属Ce靶材，想要通过反应磁控溅射在不锈钢基底上生长CeO2薄膜，但是CeO2薄膜太薄了，下面的不锈钢基底会不会也会因为被溅射出来污染我的CeO2薄膜？就是磁控溅射 ...

呵呵，终于明白了，在起辉的初始阶段，应该会有影响
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进取……永无止境！
4楼2015-08-25 10:51:56
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