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磁控溅射镀的膜比较粗糙怎么办? 已有1人参与
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直流反应磁控溅射 , 缺氧氧化钛靶材,功率200w(电压480v),溅射压强 1Pa,O2:20sccm Ar2:40SCCM 基底FTO,溅射2小时, 镀上钨电极直接看没什么问题,挺光滑的,但是显微镜下看就粗糙了,请各位大神看下怎么破。 点焊上去,上电极就和下电极穿通了,测得的电阻特别小。 (一个是100倍,另一个是200倍) 100xda.jpg 200xda.jpg |
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薄膜制备与特性 |
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peterflyer
木虫之王 (文学泰斗)
peterflyer
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3楼2015-08-04 10:00:42












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