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磁控溅射镀的膜比较粗糙怎么办？ 已有1人参与
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直流反应磁控溅射 ， 缺氧氧化钛靶材，功率200w（电压480v），溅射压强 1Pa，O2：20sccm Ar2：40SCCM 基底FTO，溅射2小时， 镀上钨电极直接看没什么问题，挺光滑的，但是显微镜下看就粗糙了，请各位大神看下怎么破。 点焊上去，上电极就和下电极穿通了，测得的电阻特别小。 (一个是100倍，另一个是200倍)  100xda.jpg  200xda.jpg |
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 薄膜制备与特性 |
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3楼2015-08-04 10:00:42