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ALD生长Al2O3 已有2人参与
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| 我最近在做ALD在Si片上长AL2O3,不过我们用的是自己在实验室搭建的一个小型ALD设备,我们使用的是也是三甲基铝,和水。在长之前用HF去除Si表面的SiO2,AFM测出来挺平整的,但是长完Al2O3后(约2nm),表面很多柱状的东西,不知道大家有没有这种情况。是不是因为HF酸腐蚀后,表面形成H-Si键钝化了,使得Al2O3不能再上边生长,然而有些地方没有形成Si-H键,所以可以生长,最终表面为不均匀的柱状分布,还望多多指教,谢谢! |
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2楼2015-07-24 21:43:53
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wanghuaxing 
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