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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 功能薄膜 » ALD生长Al2O3
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fdqfei

银虫 (小有名气)

[求助] ALD生长Al2O3 已有2人参与

我最近在做ALD在Si片上长AL2O3，不过我们用的是自己在实验室搭建的一个小型ALD设备，我们使用的是也是三甲基铝，和水。在长之前用HF去除Si表面的SiO2，AFM测出来挺平整的，但是长完Al2O3后（约2nm），表面很多柱状的东西，不知道大家有没有这种情况。是不是因为HF酸腐蚀后，表面形成H-Si键钝化了，使得Al2O3不能再上边生长，然而有些地方没有形成Si-H键，所以可以生长，最终表面为不均匀的柱状分布，还望多多指教，谢谢！
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1楼 2015-07-24 08:53:38
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wanghuaxing

禁虫 (小有名气)
本帖内容被屏蔽
4楼2015-07-28 23:15:32
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wanghuaxing

禁虫 (小有名气)
本帖内容被屏蔽
2楼2015-07-24 21:43:53
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fdqfei

银虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by wanghuaxing at 2015-07-24 21:43:53
我们用磁控溅射做氧化铝

你们用磁控溅射做多厚的，2nm不太好控制吧，我们也有磁控溅射，是沈科仪的，不知道你们用的哪的设备
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3楼2015-07-27 13:04:59
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~金蘑菇~

新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

是否是工艺的问题呢？每次通三甲基铝多长时间，通完后是否通氩气足够时间清洗真空室内的反应气体呢？
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5楼2015-07-29 16:31:58
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