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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 如何使得紫外曝光的陡直度变得更好
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VIIIX

银虫 (小有名气)

[求助] 如何使得紫外曝光的陡直度变得更好 已有1人参与

我们现在需要将胶的厚度控制在2um，但是不知道如何将这个胶边缘陡直度搞的很陡直。
我现在用的胶是N4340负胶。
这个陡直度严重影响的我的实验，尤其是跟衬底接触的部分，我应该怎么办？

如何使得紫外曝光的陡直度变得更好
Unnamed QQ Screenshot20150621131024.png
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1楼 2015-06-21 13:14:06
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VIIIX

银虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by yswyx at 2015-06-24 12:11:05
你这个图看着好诡异。
抛开图不说，你选错胶了。本身负胶垂直度就不好，多少都会有底切，你用的AR这一款胶做出来的结果就很明显。
建议选择正胶，比如SPR955，S1818，SPR220 2.0，都可以获得陡直的侧壁。如果一定 ...

ar系列的胶不好吗？
正胶的话可以得到较好的陡直度？我们这里有s1813可以吗？

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3楼2015-07-09 19:17:37
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yswyx

专家顾问 (著名写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
你这个图看着好诡异。
抛开图不说，你选错胶了。本身负胶垂直度就不好，多少都会有底切，你用的AR这一款胶做出来的结果就很明显。
建议选择正胶，比如SPR955，S1818，SPR220 2.0，都可以获得陡直的侧壁。如果一定要负胶，可以考虑futurrex的胶或者microresist的负胶。
建议咨询苏州锐材半导体，让他们帮你查一下型号。
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2楼2015-06-24 12:11:05
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