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BJ05428

铜虫 (小有名气)

[求助] 碳化铪(HfC)纳米涂层制备失败 已有1人参与

求助大神帮助,我依靠PVD磁控溅射制备碳化铪(HfC)纳米涂层,依靠氩气和乙炔,乙炔的比例我已经调的很低了,低的已经快不符合量程范围难以控制了,但是碳化铪的靶材还是老是变黑,每次制备好靶材估计都是一层碳粉。硬度往往只有4-9GPa,而且XRD也没有峰,请问有人有过类似的经验,并有什么改进思路的推荐吗?万分感谢,如有的话,请站内信联系。

[ Last edited by 月牙儿的微笑 on 2015-9-5 at 23:28 ]
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Friend007

银虫 (知名作家)


【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与,应助指数 +1
BJ05428: 金币+20, ★★★很有帮助, 提示了新的尝试解决思路 2015-06-06 10:26:22
查找一下相关文献,找找最佳参数。靶材变黑,应该是靶材功率不够,靶材表面溅射产额小于有机物生成产额导致的靶中毒。像这种反应溅射,应该在基片上反应,不是靶材上。

[ 发自小木虫客户端 ]
2楼2015-06-06 07:23:25
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BJ05428

铜虫 (小有名气)

引用回帖:
2楼: Originally posted by Friend007 at 2015-06-06 07:23:25
查找一下相关文献,找找最佳参数。靶材变黑,应该是靶材功率不够,靶材表面溅射产额小于有机物生成产额导致的靶中毒。像这种反应溅射,应该在基片上反应,不是靶材上。

我查了很多文献,交大有做的很好的,但是他们的气体比例是压力比例,而我们的是流量比。我年前做过有一次做得很好,靶上面没有变黑,而且结晶硬度都很好,但是年后设备因为漏气所以修了一次,修好后密封后原来的工艺就在也做不好了,试了较低气压也不行。谢谢你缝纫建议,我马上试试。
3楼2015-06-06 10:25:23
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