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碳化铪(HfC)纳米涂层制备失败 已有1人参与
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求助大神帮助,我依靠PVD磁控溅射制备碳化铪(HfC)纳米涂层,依靠氩气和乙炔,乙炔的比例我已经调的很低了,低的已经快不符合量程范围难以控制了,但是碳化铪的靶材还是老是变黑,每次制备好靶材估计都是一层碳粉。硬度往往只有4-9GPa,而且XRD也没有峰,请问有人有过类似的经验,并有什么改进思路的推荐吗?万分感谢,如有的话,请站内信联系。 [ Last edited by 月牙儿的微笑 on 2015-9-5 at 23:28 ] |
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薄膜制备与特性 |
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