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碳化铪（HfC）纳米涂层制备失败 已有1人参与
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求助大神帮助，我依靠PVD磁控溅射制备碳化铪（HfC）纳米涂层，依靠氩气和乙炔，乙炔的比例我已经调的很低了，低的已经快不符合量程范围难以控制了，但是碳化铪的靶材还是老是变黑，每次制备好靶材估计都是一层碳粉。硬度往往只有4-9GPa，而且XRD也没有峰，请问有人有过类似的经验，并有什么改进思路的推荐吗？万分感谢，如有的话，请站内信联系。 [ Last edited by 月牙儿的微笑 on 2015-9-5 at 23:28 ] |
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 薄膜制备与特性 |
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