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young_simple

铁虫 (小有名气)

[求助] 求助 二氧化硅煅烧后表面修饰,求同行指点

做的二氧化硅复合材料,高温煅烧后留下二氧化硅对其表面进行双键修饰。
   首先对煅烧后的二氧化硅活化,用盐酸溶液浓度多少合适?3摩尔每升还是1摩尔每升,或者别的?活化过程只是用酸溶液泡着就好还是需要别的操作呢?
   其次,活化后的双键修饰过程有什么有效的方案吗?我的实验表征后看到红外峰,几乎双键没上去,⊙﹏⊙b汗
   最后,在这样的二氧化硅表面做印迹层是不是必须有双键修饰呢,有别的什么方法增加表面的黏连效果吗
实验瓶颈啊,求大神指导,多谢
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