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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 合成表征 » 求助 二氧化硅煅烧后表面修饰，求同行指点
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young_simple

铁虫 (小有名气)

[求助] 求助 二氧化硅煅烧后表面修饰，求同行指点

做的二氧化硅复合材料，高温煅烧后留下二氧化硅对其表面进行双键修饰。
   首先对煅烧后的二氧化硅活化，用盐酸溶液浓度多少合适？3摩尔每升还是1摩尔每升，或者别的？活化过程只是用酸溶液泡着就好还是需要别的操作呢？
   其次，活化后的双键修饰过程有什么有效的方案吗？我的实验表征后看到红外峰，几乎双键没上去，⊙﹏⊙b汗
   最后，在这样的二氧化硅表面做印迹层是不是必须有双键修饰呢，有别的什么方法增加表面的黏连效果吗
实验瓶颈啊，求大神指导，多谢
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1楼 2015-05-20 10:31:06
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