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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 纳米二氧化硅粒子高温煅烧的意义？
北京石油化工学院2026年研究生招生接收调剂公告
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sheldon102

金虫 (著名写手)

[求助] 纳米二氧化硅粒子高温煅烧的意义？

stober法制备的纳米二氧化硅，煅烧与否的区别？50度真空干燥是不是就可以了？如果煅烧的话，目的是什么呢?一般来说煅烧的温度是多少呢？
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1楼 2011-06-12 23:00:23
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dut_ameng

专家顾问 (知名作家)

一只小小小小鸟

【答案】应助回帖

sheldon102(金币+2): 没有用到表面活性剂，50度真空干燥只是想除去洗涤时引入的水，只是不知道这个条件是否可以除去，煅烧后XRD未见明显区别。 2011-06-13 09:17:07
如果用表面活性剂辅助的话，煅烧是除掉有机物。
另一方面，煅烧也有利于晶粒长大，提高结晶度。
一般450~500℃就行了~
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天性驽钝，唯勤学以补之。。。
2楼2011-06-12 23:41:06
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refnew

专家顾问 (知名作家)

【答案】应助回帖

sheldon102(金币+2): 50度真空干燥会使粒子聚集吗？如果像上面说的，500度呢？ 2011-06-13 09:18:03
这种干燥只能使粒子聚集，
高温煅烧可以出去未反应完全的物质
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3楼2011-06-13 08:25:05
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更木

木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

煅烧的目的一般就是除去二氧化硅内部的有机物，有时用有机溶剂萃取也可以！
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4楼2011-06-13 18:10:53
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363760867

金虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

sheldon102(金币+2): 提高结晶度，从哪里体现呢？为何XRD表征，未见明显区别 2011-06-14 09:33:15
引用回帖:
Originally posted by dut_ameng at 2011-06-12 23:41:06:
如果用表面活性剂辅助的话，煅烧是除掉有机物。
另一方面，煅烧也有利于晶粒长大，提高结晶度。
一般450~500℃就行了~

这位朋友说的很对
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5楼2011-06-14 08:26:05
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sheldon102

金虫 (著名写手)
还有其他意见吗？
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6楼2011-06-16 11:08:15
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zlqaicry

金虫 (正式写手)

无锡兰友电子

【答案】应助回帖

高温可以起到退火的作用，消除内应力。
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7楼2011-06-17 14:36:43
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sheldon102

金虫 (著名写手)
引用回帖:
Originally posted by zlqaicry at 2011-06-17 14:36:43:
高温可以起到退火的作用，消除内应力。

粒径在400-500nm左右，消除内应力有什么影响？
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8楼2011-06-18 11:22:55
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蒋青松

荣誉版主 (著名写手)

优秀版主优秀版主优秀版主
引用回帖:
Originally posted by dut_ameng at 2011-06-12 23:41:06:
如果用表面活性剂辅助的话，煅烧是除掉有机物。
另一方面，煅烧也有利于晶粒长大，提高结晶度。
一般450~500℃就行了~

这是什么原因呢？ 有何证据没有呢？
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9楼2011-06-19 15:28:21
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zhenxiong

铜虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

你为什么要锻烧呢
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10楼2011-06-22 02:25:20
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