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sheldon102

金虫 (著名写手)

[求助] 纳米二氧化硅粒子高温煅烧的意义?

stober法制备的纳米二氧化硅,煅烧与否的区别?50度真空干燥是不是就可以了?如果煅烧的话,目的是什么呢?一般来说煅烧的温度是多少呢?
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蒋青松

荣誉版主 (著名写手)

优秀版主优秀版主优秀版主

引用回帖:
Originally posted by dut_ameng at 2011-06-12 23:41:06:
如果用表面活性剂辅助的话,煅烧是除掉有机物。
另一方面,煅烧也有利于晶粒长大,提高结晶度。
一般450~500℃就行了~

这是什么原因呢? 有何证据没有呢?
9楼2011-06-19 15:28:21
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查看全部 13 个回答

dut_ameng

专家顾问 (知名作家)

一只小小小小鸟

【答案】应助回帖

sheldon102(金币+2): 没有用到表面活性剂,50度真空干燥只是想除去洗涤时引入的水,只是不知道这个条件是否可以除去,煅烧后XRD未见明显区别。 2011-06-13 09:17:07
如果用表面活性剂辅助的话,煅烧是除掉有机物。
另一方面,煅烧也有利于晶粒长大,提高结晶度。
一般450~500℃就行了~
天性驽钝,唯勤学以补之。。。
2楼2011-06-12 23:41:06
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refnew

专家顾问 (知名作家)


【答案】应助回帖

sheldon102(金币+2): 50度真空干燥会使粒子聚集吗?如果像上面说的,500度呢? 2011-06-13 09:18:03
这种干燥只能使粒子聚集,
高温煅烧可以出去未反应完全的物质
3楼2011-06-13 08:25:05
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更木

木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

煅烧的目的一般就是除去二氧化硅内部的有机物,有时用有机溶剂萃取也可以!
4楼2011-06-13 18:10:53
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