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低温制备SiO2有什么好的方法
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衬底：PET 制备材料：SiO2 厚度：300nm 温度：<200℃ 本来准备采用PECVD制备的，但实验室的老师说有机物不可以进设备，我的衬底是PET塑料，没办法做。 还有磁控溅射可以做，但那边的老师说溅射SiO2速度非常慢，要三个小时左右，我需要做五组样品，实验室使用也比较紧张，时间不合适。 不知道各位大神们有什么好的方法，不行的话就只能用磁控溅射了。  |
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