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chayfei

金虫 (正式写手)

[求助] CVD制备二硫化钼为什么选择SiO2/Si为衬底?已有2人参与

最近在用CVD制备单层的MoS2,但是一直结果不理想,还有一个困惑是为什么都是用SiO2/Si为衬底,而不是直接用Si为衬底呢?
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aqing_asus

银虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

二硫化钼是半导体材料,对于半导体材料而言,最重要的性能就是电学性质,简单来说就是制备出器件,通过测试器件的转移曲线等得到其电学性能就是一般化的思路。制备器件需要在衬底上提供一层绝缘体介电层材料,SiO2正好起到这个作用。之所以选择SiO2而不选择其他的介电层材料是因为,在Si上氧化生成SiO2会远远比生长或者转移其他材料容易得多。具体的专业知识可以参考《半导体物理与器件》。
4楼2016-05-13 10:55:40
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yueelan

木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
便于显微镜下观察单原子层样品
就算整个世界都被寂寞绑票我也不会逃跑
2楼2015-04-24 08:37:56
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chemistry00

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
2楼: Originally posted by yueelan at 2015-04-24 08:37:56
便于显微镜下观察单原子层样品

您好 麻烦问一下 在显微镜下怎么看出是单层
5楼2018-03-07 09:58:48
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