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SiO2材料在600度高温煅烧5h后，FTIR光谱中仍然有羟基OH的峰，为什么？ 已有2人参与
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用3-巯丙基三甲氧基硅烷(MPTMS)合成一种SiO2材料后，进行表征，600度高温煅烧5h后，红外光谱中仍然有羟基OH 和巯基SH 的峰，怎么解释? 这两个基团一定会被煅烧掉吗？十分感谢各位！ |
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wws19851024
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