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gaoxin870605

金虫 (小有名气)

[求助] 电沉积制备氧化亚铜 已有1人参与

各位大侠,想请教一下用电化学工作站电沉积氧化亚铜的问题!
以下是我的制备条件:
       恒电位沉积Chronoamperometry
       初始电位:开路电位
       高电位:开路电位
       低电位:-0.2V、-0.3V、-0.4V、-0.5V都试过
       沉积时间:10min到30min
电解液:0.1M醋酸钠和0.02M的醋酸铜,用醋酸调节PH为5.7

怎么都沉积不上,很奇怪,真心着急,文献上也说可以沉积上的,拜求赐教!小妹感激不尽!
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gaoxin870605

金虫 (小有名气)

引用回帖:
6楼: Originally posted by gxytju2008 at 2014-11-26 23:35:03
FTO粗糙度比较大,可能需要推动力大点,但是也没道理做不上去,建议扫个CV试试,要在第一个还原峰再负一点的地方做,另外你还是多看看paper吧,我记得FTO上做这个的文章也不是一两篇了。。还是多看几篇找个更靠谱点 ...

谢谢了,我试试,再看看文献,非常感谢
7楼2014-11-27 11:33:48
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wanghuaxing

禁虫 (小有名气)

本帖内容被屏蔽

2楼2014-11-25 22:37:32
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gxytju2008

专家顾问 (文坛精英)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
基底是啥啊。。话说如果就是为了沉氧化亚铜根本不需要这么麻烦。。还调ph啥的,而且更简单的恒电位已经足够用了。。用脉冲法的话强烈建议先把恒电位搞熟了能做出来了再加,否则不太好控制的

» 本帖已获得的红花(最新10朵)

3楼2014-11-26 11:42:19
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gaoxin870605

金虫 (小有名气)

引用回帖:
2楼: Originally posted by wanghuaxing at 2014-11-25 22:37:32
用磁控溅射生长氧化铜薄膜

电化学工作站能实现吗?实验室条件有限
4楼2014-11-26 22:19:00
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