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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 半导体 » 电沉积制备氧化亚铜
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gaoxin870605

金虫 (小有名气)

[求助] 电沉积制备氧化亚铜 已有1人参与

各位大侠，想请教一下用电化学工作站电沉积氧化亚铜的问题！
以下是我的制备条件：
       恒电位沉积Chronoamperometry
       初始电位：开路电位
       高电位：开路电位
       低电位：-0.2V、-0.3V、-0.4V、-0.5V都试过
       沉积时间：10min到30min
电解液：0.1M醋酸钠和0.02M的醋酸铜，用醋酸调节PH为5.7

怎么都沉积不上，很奇怪，真心着急，文献上也说可以沉积上的，拜求赐教！小妹感激不尽！
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1楼 2014-11-25 20:36:05
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wanghuaxing

禁虫 (小有名气)
本帖内容被屏蔽
2楼2014-11-25 22:37:32
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gxytju2008

专家顾问 (文坛精英)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
基底是啥啊。。话说如果就是为了沉氧化亚铜根本不需要这么麻烦。。还调ph啥的，而且更简单的恒电位已经足够用了。。用脉冲法的话强烈建议先把恒电位搞熟了能做出来了再加，否则不太好控制的
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gaoxin870605
3楼2014-11-26 11:42:19
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gaoxin870605

金虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by wanghuaxing at 2014-11-25 22:37:32
用磁控溅射生长氧化铜薄膜

电化学工作站能实现吗？实验室条件有限
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4楼2014-11-26 22:19:00
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gaoxin870605

金虫 (小有名气)
送红花一朵
引用回帖:
3楼: Originally posted by gxytju2008 at 2014-11-26 11:42:19
基底是啥啊。。话说如果就是为了沉氧化亚铜根本不需要这么麻烦。。还调ph啥的，而且更简单的恒电位已经足够用了。。用脉冲法的话强烈建议先把恒电位搞熟了能做出来了再加，否则不太好控制的

基地是FTO，从文献上看的实验过程。请问具体应该怎么做才能沉积上呢？都做了快三个星期了，一点都沉积不上，非常感谢指教！电化学工作站也是刚开始学着用，恒电位沉积就是Chronoamperometry吗？参数怎么设置呢？上面的参数设置也是在小木虫上找的，不知道对不对，能私聊求指导吗？
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5楼2014-11-26 22:23:42
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gxytju2008

专家顾问 (文坛精英)
引用回帖:
5楼: Originally posted by gaoxin870605 at 2014-11-26 22:23:42
基地是FTO，从文献上看的实验过程。请问具体应该怎么做才能沉积上呢？都做了快三个星期了，一点都沉积不上，非常感谢指教！电化学工作站也是刚开始学着用，恒电位沉积就是Chronoamperometry吗？参数怎么设置呢？上 ...

FTO粗糙度比较大，可能需要推动力大点，但是也没道理做不上去，建议扫个CV试试，要在第一个还原峰再负一点的地方做，另外你还是多看看paper吧，我记得FTO上做这个的文章也不是一两篇了。。还是多看几篇找个更靠谱点的试试。。恒电位对不同工作站具体方法不同的，关键要看输入信号是不是电压恒定的那种，要好好看看操作手册。建议你还是把文章还有仪器研究研究吧。。别太着急上手了，出问题也不知道咋调整你现在是
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6楼2014-11-26 23:35:03
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gaoxin870605

金虫 (小有名气)
引用回帖:
6楼: Originally posted by gxytju2008 at 2014-11-26 23:35:03
FTO粗糙度比较大，可能需要推动力大点，但是也没道理做不上去，建议扫个CV试试，要在第一个还原峰再负一点的地方做，另外你还是多看看paper吧，我记得FTO上做这个的文章也不是一两篇了。。还是多看几篇找个更靠谱点 ...

谢谢了，我试试，再看看文献，非常感谢
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7楼2014-11-27 11:33:48
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