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离子注入后的光刻胶怎么去除?
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碳化光刻胶去除求助!
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1楼
2014-10-12 18:52:50
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lilongfgh
铁杆木虫
(著名写手)
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虫号: 999177
注册: 2010-04-17
性别: GG
专业: 半导体光电子器件
引用回帖:
3楼
:
Originally posted by
exciting73
at 2014-10-12 23:11:57
胶碳化了,很难去掉。
我们这边有耐高温的光刻胶,离子注入后很容易去除。有兴趣站内联系。
请问您用的什么胶?耐多高温度?谢谢!
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不断的学习
8楼
2021-04-15 16:22:16
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zzycsu
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[ 发自小木虫客户端 ]
2楼
2014-10-12 18:53:07
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exciting73
金虫
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注册: 2012-08-19
性别: GG
专业: 半导体材料
【答案】应助回帖
商家已经主动声明此回帖可能含有宣传内容
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胶碳化了,很难去掉。
我们这边有耐高温的光刻胶,离子注入后很容易去除。有兴趣站内联系。
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3楼
2014-10-12 23:11:57
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yswyx
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imgod18: 金币+10,
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2014-10-20 09:54:18
用氧气plasma去除,6130并不厚,去除还是比较容易的。
至于耐高温的光刻胶,一般是用来做蒸镀时来防止碳化的,用于lift off工艺,和抗离子注入的完全不同。
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4楼
2014-10-15 18:06:54
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