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求助:做过硅刻蚀的小伙伴们,RIE参数你们一般确定的多少? 已有2人参与
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RIE参数:功率、气体种类、气体流量、压强、时间。 对于硅的干法刻蚀,以上几个RIE参数,大家都用的多少呢?你们一般用这样的参数刻多深? 我现在用的功率是70W,气氛用的SF6,压强25Pa(压强会不会太大了),流量是10sccm,时间大概10min,刻蚀现在还没有多大进展?求教!!! |
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请教RIE刻蚀PS球的工艺参数
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2楼2014-10-29 16:56:22
通天教主
银虫 (小有名气)
- 应助: 3 (幼儿园)
- 金币: 435.8
- 帖子: 100
- 在线: 18.6小时
- 虫号: 3729606
- 注册: 2015-03-08
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- 专业: 金属材料表面科学与工程
3楼2015-03-11 22:15:47













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