| 查看: 2172 | 回复: 2 | ||
[求助]
求助：做过硅刻蚀的小伙伴们，RIE参数你们一般确定的多少？ 已有2人参与
|
|
RIE参数：功率、气体种类、气体流量、压强、时间。 对于硅的干法刻蚀，以上几个RIE参数，大家都用的多少呢？你们一般用这样的参数刻多深？ 我现在用的功率是70W，气氛用的SF6，压强25Pa（压强会不会太大了），流量是10sccm，时间大概10min，刻蚀现在还没有多大进展？求教！！！ |
回复此楼» 猜你喜欢
求蒋阳、陶珍东编写“粉体工程”第二版教材的配套课件ppt?
已经有0人回复
-
求粉体工程的课件ppt?
已经有0人回复
-
有机高分子材料论文润色/翻译怎么收费?
已经有297人回复
-
新加坡南洋理工大学NTU诚招电池相关方向博后
已经有25人回复
-
求Journal of Environmental Chemical Engineering的参考文献格式-Endnote
已经有4人回复
-
800摄氏度下薄膜电导率测量
已经有2人回复
-
求博士机会 · 全固态电池方向
已经有2人回复
-
九水硝酸铁作为碳前驱体石墨化催化剂的制备求助
已经有0人回复
-
碳材料在水中无法分散，如何在不改性的情况下使其在水中均匀分散
已经有2人回复
-
今年没中，请各位大神帮我看一下，评审结果，大概几个ABC。
已经有12人回复
-
面上函评意见出来了，像什么等级？
已经有1人回复
» 本主题相关价值贴推荐，对您同样有帮助:
- 请教RIE刻蚀PS球的工艺参数
已经有6人回复
2楼2014-10-29 16:56:22
通天教主
银虫 (小有名气)
- 应助: 3 (幼儿园)
- 金币: 435.8
- 帖子: 100
- 在线: 18.6小时
- 虫号: 3729606
- 注册: 2015-03-08
- 性别: GG
- 专业: 金属材料表面科学与工程
3楼2015-03-11 22:15:47
投票:
10