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铝的蚀刻工艺
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ke0212
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专业: 半导体材料
[交流]
铝的蚀刻工艺
已有1人参与
目前在做一个课题 就是半导体领域常用的硬质铝刀片 需要用氢氧化钠去蚀刻一部分铝
想请教下,铝用NaOH去蚀刻除了需要注意 氢氧化钠浓度 反应温度,还要注意什么, 随着反应的进行,氢氧化钠慢慢消耗,应该怎么维持氢氧化钠的浓度呢?
蚀刻液中偏铝酸钠的浓度会影响蚀刻速度吗?
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huanhuan5650
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志存高远
1楼
2014-08-18 22:52:30
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huanhuan5650
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ke0212: 金币+1
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scu2020: 金币+1, 感谢应助交流,常来工艺技术版
2014-08-22 23:23:59
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6楼
:
Originally posted by
ke0212
at 2014-08-21 20:54:07
硝酸钠的作用是什么? 是质量比为1:1吗?
流程:除油--除氧化层--涂布---烤干---曝光----显影----蚀刻---褪膜 ---阳极氧化---OK 这个流程是电化学蚀刻吗?...
质量比 ,作用:降温,缓冲剂
是化学蚀刻
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7楼
2014-08-22 08:21:38
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tyhjqxbz
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加快速度的方法:
方法一:加大氢氧化钠浓度
方法二:当然可以滴几滴硫酸铜(只能几滴,多了会沉淀,这时溶液变蓝),
使之生成不稳定络合物[Cu(OH)4]2-
铝可以从中置换出Cu,形成原电池加快反应
这篇文献可以看看哦
http://www.cnki.com.cn/Article/CJFDTotal-QJGY201307024.htm
http://wenku.baidu.com/link?url= ... AdJ0kn6tyhoTfeCSphm
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只为成功找方法,不为失败找借口——欢迎常到注册执考区
2楼
2014-08-19 07:06:40
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huanhuan5650
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ke0212: 金币+1
2014-08-19 19:47:04
tyhjqxbz: 金币+1, 感谢应助交流,常来工艺技术版
2014-08-20 06:56:51
你是需要铝蚀刻的工艺流程和参数吗?以及过程的控制,管理?铝离子的范围?
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3楼
2014-08-19 16:58:12
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3楼
:
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huanhuan5650
at 2014-08-19 16:58:12
你是需要铝蚀刻的工艺流程和参数吗?以及过程的控制,管理?铝离子的范围?
是的啊 非常感谢,铝蚀刻的工艺流程和参数、以及过程的控制,管理这些有资料能给我参考吗?
另外铝离子的范围?这个鋁离子是怎么产生的呢? 我查阅了很多资料,铝在强碱溶液中怎么会有铝离子产生呢?
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志存高远
4楼
2014-08-19 19:16:07
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