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请教:有做高介电常数膜的吗?
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我用PECVD做Ta2O5,源气体是乙醇钽和O2,工作气体是Ar,乙醇钽加热成蒸气与Ar一起进入真空室,基底温度400左右,在基片上沉积Ta2O5,可是沉积不成功,请教一下大虾! [ Last edited by SHY31 on 2008-4-12 at 08:46 ] |
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2楼2008-04-12 08:33:24
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