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请教:有做高介电常数膜的吗？
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我用PECVD做Ta2O5，源气体是乙醇钽和O2，工作气体是Ar，乙醇钽加热成蒸气与Ar一起进入真空室，基底温度400左右，在基片上沉积Ta2O5，可是沉积不成功，请教一下大虾！ [ Last edited by SHY31 on 2008-4-12 at 08:46 ] |
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