| 查看: 1843 | 回复: 11 | ||
| 当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖 | ||
[求助]
湿法刻蚀teflon表面上AL的问题 已有2人参与
|
||
|
本人在FTO膜上做了一层100nm左右的teflon， contact angle为120度左右。然后在teflon上面用evaporate了厚度为150nm的铝以便进行下一步光刻。 当我用85% phosphoric acid： nitric acid： acetic acid=15:4:1 的腐蚀液刻蚀后，表面完全变为亲水，但依然保持导电（电阻值与本来无异），代表Teflon失效或随铝消失。 teflon很稳定，我曾经检验过没有evaporate铝前泡在以上腐蚀液中1h 完全没影响。为何evaporate铝再etch就会如此呢？不知道各位大神对此有何见解？ 在此恳请大家帮忙，不胜感激！ |
回复此楼» 猜你喜欢
金属材料论文润色/翻译怎么收费?
已经有286人回复
眼镜片1
银虫 (著名写手)
- 应助: 143 (高中生)
- 金币: 6304.8
- 散金: 1374
- 红花: 41
- 帖子: 2012
- 在线: 3550.8小时
- 虫号: 1876321
- 注册: 2012-07-03
- 专业: 胶体与界面化学
12楼2014-07-24 14:10:42
exciting73 
金虫 (著名写手)
- 应助: 110 (高中生)
- 金币: 579.9
- 红花: 20
- 帖子: 1785
- 在线: 272.7小时
- 虫号: 1946276
- 注册: 2012-08-19
- 性别: GG
- 专业: 半导体材料
2楼2014-07-22 19:44:23
3楼2014-07-22 19:57:12
exciting73
金虫 (著名写手)
- 应助: 110 (高中生)
- 金币: 579.9
- 红花: 20
- 帖子: 1785
- 在线: 272.7小时
- 虫号: 1946276
- 注册: 2012-08-19
- 性别: GG
- 专业: 半导体材料
4楼2014-07-23 09:16:39
20