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北京石油化工学院2026年研究生招生接收调剂公告
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just896

新虫 (初入文坛)

[求助] 湿法刻蚀teflon表面上AL的问题 已有2人参与

本人在FTO膜上做了一层100nm左右的teflon, contact angle为120度左右。然后在teflon上面用evaporate了厚度为150nm的铝以便进行下一步光刻。
当我用85% phosphoric acid: nitric acid: acetic acid=15:4:1 的腐蚀液刻蚀后,表面完全变为亲水,但依然保持导电(电阻值与本来无异),代表Teflon失效或随铝消失。

teflon很稳定,我曾经检验过没有evaporate铝前泡在以上腐蚀液中1h 完全没影响。为何evaporate铝再etch就会如此呢?不知道各位大神对此有何见解?

在此恳请大家帮忙,不胜感激!
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exciting73

金虫 (著名写手)


引用回帖:
3楼: Originally posted by just896 at 2014-07-22 19:57:12
蒸镀是用e-beam evaporation做的,温度不高,对于teflon来说是可以承受的。
我用只镀了铝没光刻的样做了etching,也是同样的效果,应该说明光刻没有影响。

不知道是否是因为腐蚀的时候太剧烈,热应力和起泡对膜 ...

主要是蒸镀对Teflon与FTO膜之间的附着力有没有影响?另外Teflon膜完全没有了吗?
可以考虑下稀释腐蚀液。
4楼2014-07-23 09:16:39
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exciting73

金虫 (著名写手)


【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
是否蒸镀时的加热温度会对Teflon膜有影响?另外还有光刻步骤对Teflon膜是否有影响?把这些因素考虑进去看看
2楼2014-07-22 19:44:23
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just896

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
2楼: Originally posted by exciting73 at 2014-07-22 19:44:23
是否蒸镀时的加热温度会对Teflon膜有影响?另外还有光刻步骤对Teflon膜是否有影响?把这些因素考虑进去看看

蒸镀是用e-beam evaporation做的,温度不高,对于teflon来说是可以承受的。
我用只镀了铝没光刻的样做了etching,也是同样的效果,应该说明光刻没有影响。

不知道是否是因为腐蚀的时候太剧烈,热应力和起泡对膜有破坏性作用?

[ 发自小木虫客户端 ]
3楼2014-07-22 19:57:12
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just896

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
4楼: Originally posted by exciting73 at 2014-07-23 09:16:39
主要是蒸镀对Teflon与FTO膜之间的附着力有没有影响?另外Teflon膜完全没有了吗?
可以考虑下稀释腐蚀液。...

teflon与 fto的附着力确实不如fto与铝的附着力。另外我想加厚teflon层从而达到完全和增加机械强度,不知可否?
腐蚀液的确需要稀释,限于腐蚀液由学校管理,还要跟他们协商

[ 发自小木虫客户端 ]
5楼2014-07-23 12:22:02
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