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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 湿法刻蚀teflon表面上AL的问题
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just896

新虫 (初入文坛)

[求助] 湿法刻蚀teflon表面上AL的问题 已有2人参与

本人在FTO膜上做了一层100nm左右的teflon， contact angle为120度左右。然后在teflon上面用evaporate了厚度为150nm的铝以便进行下一步光刻。
当我用85% phosphoric acid： nitric acid： acetic acid=15:4:1 的腐蚀液刻蚀后，表面完全变为亲水，但依然保持导电（电阻值与本来无异），代表Teflon失效或随铝消失。

teflon很稳定，我曾经检验过没有evaporate铝前泡在以上腐蚀液中1h 完全没影响。为何evaporate铝再etch就会如此呢？不知道各位大神对此有何见解？

在此恳请大家帮忙，不胜感激！
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1楼 2014-07-21 18:25:29
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just896

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
10楼: Originally posted by 眼镜片1 at 2014-07-24 12:36:13
不清楚你具体要做什么  所以也没法给具体的建议  我只是做界面润湿的  对微机械系统不了解...

其实我也做表面的wettability pattern的，就想用al做sacrified layer做光刻

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11楼2014-07-24 13:00:38
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exciting73

金虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
是否蒸镀时的加热温度会对Teflon膜有影响？另外还有光刻步骤对Teflon膜是否有影响？把这些因素考虑进去看看
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2楼2014-07-22 19:44:23
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just896

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
2楼: Originally posted by exciting73 at 2014-07-22 19:44:23
是否蒸镀时的加热温度会对Teflon膜有影响？另外还有光刻步骤对Teflon膜是否有影响？把这些因素考虑进去看看

蒸镀是用e-beam evaporation做的，温度不高，对于teflon来说是可以承受的。
我用只镀了铝没光刻的样做了etching，也是同样的效果，应该说明光刻没有影响。

不知道是否是因为腐蚀的时候太剧烈，热应力和起泡对膜有破坏性作用?

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3楼2014-07-22 19:57:12
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exciting73

金虫 (著名写手)
引用回帖:
3楼: Originally posted by just896 at 2014-07-22 19:57:12
蒸镀是用e-beam evaporation做的，温度不高，对于teflon来说是可以承受的。
我用只镀了铝没光刻的样做了etching，也是同样的效果，应该说明光刻没有影响。

不知道是否是因为腐蚀的时候太剧烈，热应力和起泡对膜 ...

主要是蒸镀对Teflon与FTO膜之间的附着力有没有影响？另外Teflon膜完全没有了吗？
可以考虑下稀释腐蚀液。
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4楼2014-07-23 09:16:39
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