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ICP刻蚀草地 已有2人参与
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请问各位高手，为什么利用ICP刻蚀SiO2后沟槽里全是草状结构，我查了下资料说是长草效应，请问这种效应主要跟哪个刻蚀参数有关系。我用CF3，Ar和O2气三种气体刻蚀SiO2，我现在正调节刻蚀参数来消除这种草地效应，但不知道最关键因素是什么，望高人指点。万分感激 图像 1.png |
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quanten
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3楼2014-07-24 18:56:39
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