| 查看: 1807 | 回复: 2 | ||||
[交流]
如何出去二氧化硅内部和表面的SI-OH键已有1人参与
|
|
请教各位如何出去二氧化硅内部和表面的SI-OH键。应该在多少温度多少压力下煅烧才能除去？大概能除去多少 另外如果SI-OH键缩合变成SI-O-SI，那是否和二氧化硅中的SI-O-SI相同，是否会影响二氧化硅的熔点等物理性质 |
回复此楼» 收录本帖的淘帖专辑推荐
 关注 |
» 猜你喜欢
二苯甲酮亚胺的合成
已经有1人回复
-
聚左旋乳酸的作用与机制：从胶原再生到组织修复
已经有0人回复
-
有机高分子材料论文润色/翻译怎么收费?
已经有264人回复
-
可生物降解聚酯聚己内酯的性能分析与发展趋势
已经有0人回复
-
带膜支架的膜和支架之间的结合力如何测试
已经有2人回复
-
西交利物浦大学奖学金博士招生（生物传感或机器学习方向）
已经有1人回复
-
南方科技大学招收金属材料方向博士生
已经有23人回复
-
可降解聚酯材料在医疗器械中的应用趋势与创新方向
已经有0人回复
-
可降解微球如何提升药物精准治疗效果
已经有0人回复
-
静电纺丝膜分层问题
已经有0人回复
-
什么脱膜剂可以完全清洗干净啊？
已经有2人回复
» 本主题相关价值贴推荐，对您同样有帮助:
2楼2014-07-13 17:24:20
3楼2014-07-13 22:10:34