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退火炉退火 已有3人参与
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我做半导体薄膜在氮气气氛中退火，但是我做出来的样品却被氧化了，生成了其他物质。我做的方法是，先抽到一定的本底真空，然后再关闭闸板阀，通一定量的氮气，然后关闭分子泵，然后开始升温，进行退火，但是这时机械泵是开着的。这时通入的氮气是不是已经被机械泵抽走了呢？变成了真空退火呢？ 具体退火的先后顺序是什么呢？是先升温还是先通气？ |
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