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XRD表征TaOx非晶薄膜
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求助各路大神: 我想用XRD验证常温下磁控射频反应溅射的TaOx(元素比没达到Ta2O5)薄膜是非晶的,衬底是100晶面的硅片,测试后用jade做出下面的图: http:// 测试条件是小射掠射,入射角1度,扫描范围10-90度。 我有2个问题: 1.能否证明我溅射的TaOx薄膜是非晶的,从图上看哪个非晶包络? 2.0-20度的强度为什么很大?是小角掠射造成的吗? |
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