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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 功能薄膜 » 急问：磁控溅射生长NiO薄膜，测不出XRD？ 多谢！
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剑雨逸

木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

注意氧气的量 当心靶中毒

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11楼2014-05-22 08:32:02
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zwy198759

新虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★
ljlaser: 金币+3, 很全面，多谢 2014-06-11 09:34:45
首先，对于你靶材开裂的情况，你用的NiO靶材是陶瓷的，散热不是太好，在进行溅射时应该溅射一段时间，停一段时间，如溅射20min,停10min.
第二，对于溅射功率，就陶瓷靶材而言，不应功率太大，防止靶材皲裂，确实需要大功率溅射时，应慢慢增加功率至你需要值，如需300W溅射，你可以先将功率加至100W，溅射一段时间，再逐步加至300W。
第三，对于制备NiO薄膜的工艺，Ni，Fe,Co，在磁场中很容易被磁化，在利用磁控溅射Ni，Fe,Co时，他们被磁化后，屏蔽了靶的磁场，很难溅射，要注意NiO靶材的磁性质。
第四，一般做氧化物薄膜，沉积态下，非晶是正常的，你可以后期退火处理。对于薄膜的XRD测试，在没有薄膜附件的情况下，基本的还是可以做的，但是薄膜的掠入射，残余应力等测试无法进行
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12楼2014-05-22 09:46:17
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qhs81

新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

我觉得LZ用的陶瓷靶，溅射的时候靶面温度很高的，是容易开裂。XRD测不出或许是机器精度达不到，或者结晶度很差，烧下试试。
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13楼2014-06-11 09:20:30
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qhs81

新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

还有你加入了氧气，氧气的量对溅射速率影响很大，还有可能造成靶中毒无法溅射。
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14楼2014-06-16 08:53:09
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瑞舞轻扬

木虫 (正式写手)
退火
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15楼2014-10-20 10:49:32
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18335762710

新虫 (初入文坛)
你出现反射功率了么？

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16楼2017-03-10 21:26:14
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强哥哥哥

新虫 (著名写手)
基底加热或者镀完后退火处理

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17楼2017-03-10 22:14:48
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