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剑雨逸

木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

注意氧气的量 当心靶中毒

[ 发自小木虫客户端 ]
11楼2014-05-22 08:32:02
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zwy198759

新虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★
ljlaser: 金币+3, 很全面,多谢 2014-06-11 09:34:45
首先,对于你靶材开裂的情况,你用的NiO靶材是陶瓷的,散热不是太好,在进行溅射时应该溅射一段时间,停一段时间,如溅射20min,停10min.
第二,对于溅射功率,就陶瓷靶材而言,不应功率太大,防止靶材皲裂,确实需要大功率溅射时,应慢慢增加功率至你需要值,如需300W溅射,你可以先将功率加至100W,溅射一段时间,再逐步加至300W。
第三,对于制备NiO薄膜的工艺,Ni,Fe,Co,在磁场中很容易被磁化,在利用磁控溅射Ni,Fe,Co时,他们被磁化后,屏蔽了靶的磁场,很难溅射,要注意NiO靶材的磁性质。
第四,一般做氧化物薄膜,沉积态下,非晶是正常的,你可以后期退火处理。对于薄膜的XRD测试,在没有薄膜附件的情况下,基本的还是可以做的,但是薄膜的掠入射,残余应力等测试无法进行
12楼2014-05-22 09:46:17
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qhs81

新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

我觉得LZ用的陶瓷靶,溅射的时候靶面温度很高的,是容易开裂。XRD测不出或许是机器精度达不到,或者结晶度很差,烧下试试。
13楼2014-06-11 09:20:30
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qhs81

新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

还有你加入了氧气,氧气的量对溅射速率影响很大,还有可能造成靶中毒无法溅射。
14楼2014-06-16 08:53:09
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瑞舞轻扬

木虫 (正式写手)

15楼2014-10-20 10:49:32
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18335762710

新虫 (初入文坛)

16楼2017-03-10 21:26:14
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强哥哥哥

新虫 (著名写手)

基底加热或者镀完后退火处理

发自小木虫Android客户端
17楼2017-03-10 22:14:48
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