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ljlaser

铁虫 (初入文坛)

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[求助] 急问：磁控溅射生长NiO薄膜，测不出XRD？多谢！已有9人参与

急问：磁控溅射生长NiO薄膜，测不出XRD？多谢！
新手上路，哈哈
射频生长、NiO薄膜，想测出XRD：
3寸NiO靶材，在玻璃基板上，
首先，用120w，170w的RF，通Ar：O2 为15，15sccm，沉积1小时，虽然靶材中间出现了裂纹，但生长的膜，还是太薄，或者结晶差，测不出XRD。
然后，用100w的RF，通Ar：O2 为50，50sccm，沉积1小时，还是测不出XRD的峰。

到底该怎么做呢？

多谢！

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1楼 2014-05-19 09:24:42

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zwy198759

新虫 (正式写手)

应助: 11 (小学生)
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专业: 金属功能材料

【答案】应助回帖

★ ★ ★
ljlaser: 金币+3, 很全面，多谢 2014-06-11 09:34:45

首先，对于你靶材开裂的情况，你用的NiO靶材是陶瓷的，散热不是太好，在进行溅射时应该溅射一段时间，停一段时间，如溅射20min,停10min.
第二，对于溅射功率，就陶瓷靶材而言，不应功率太大，防止靶材皲裂，确实需要大功率溅射时，应慢慢增加功率至你需要值，如需300W溅射，你可以先将功率加至100W，溅射一段时间，再逐步加至300W。
第三，对于制备NiO薄膜的工艺，Ni，Fe,Co，在磁场中很容易被磁化，在利用磁控溅射Ni，Fe,Co时，他们被磁化后，屏蔽了靶的磁场，很难溅射，要注意NiO靶材的磁性质。
第四，一般做氧化物薄膜，沉积态下，非晶是正常的，你可以后期退火处理。对于薄膜的XRD测试，在没有薄膜附件的情况下，基本的还是可以做的，但是薄膜的掠入射，残余应力等测试无法进行