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北京石油化工学院2026年研究生招生接收调剂公告
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baoer410

铁杆木虫 (职业作家)

我就是采用的HF刻蚀得到的氢终止基硅,应该是疏水的啊,没测过接触角,但目测效果不错啊,基片可以完全浮在水面上
11楼2014-05-17 15:20:15
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kevin_yuan

银虫 (初入文坛)

引用回帖:
9楼: Originally posted by abraca at 2014-05-17 14:45:13
没那么麻烦。
1脱油,用丙酮氯仿之类超声十分钟,两次。
2硫酸双氧水80度十分钟。
3氢氟酸稀释液漂洗1分钟。
4氮气吹干,即用。

我想问下,第三步能用硅烷偶联剂浸泡替代么?因为我这边没有通风箱,恐怕氢氟酸稀释不太好做啊

多谢帮助
12楼2014-05-17 15:24:31
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kevin_yuan

银虫 (初入文坛)

引用回帖:
9楼: Originally posted by abraca at 2014-05-17 14:45:13
没那么麻烦。
1脱油,用丙酮氯仿之类超声十分钟,两次。
2硫酸双氧水80度十分钟。
3氢氟酸稀释液漂洗1分钟。
4氮气吹干,即用。

另外,第一步,硅片脱油指的是什么?
13楼2014-05-17 15:25:29
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kevin_yuan

银虫 (初入文坛)

引用回帖:
11楼: Originally posted by baoer410 at 2014-05-17 15:20:15
我就是采用的HF刻蚀得到的氢终止基硅,应该是疏水的啊,没测过接触角,但目测效果不错啊,基片可以完全浮在水面上

我拿HF泡了,吹干后,接触角很小啊,目测大概30° ~ 45°左右,在我这个实验里肯定不够,起码要超过90°
14楼2014-05-17 15:34:23
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yswyx

专家顾问 (著名写手)


【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
引用回帖:
8楼: Originally posted by kevin_yuan at 2014-05-17 14:20:53
纳米级别的粗糙度,我好像在超疏水的一些论文里看到过,这个我肯定是做不了的。您说的接枝氟硅烷是偶联剂么?您的意思是用这个的醇溶液浸泡么?

具体如何操作?...

你买回来的硅片表面本身就是纳米级的粗糙度。国产硅片Ra是1~2nm,进口硅片一般是小于1nm。
单晶硅本身是疏水的,但是会有原生氧化层,所以会表现的亲水。用HF腐蚀掉原生氧化层,会表现出一定的疏水,但是在空气中一暴露会迅速产生原生氧化层,变的亲水。所以泡完HF最好立即使用。
当然,我们还有很多的方法让硅片表面疏水,比如镀各种疏水薄膜。镀膜会有一定的厚度,那么很多情况下大家不愿意用,所以还会有很多别的方法,比如表面处理。偶联剂是一种常用的方法,在半导体领域,有非常常用和便宜的偶联剂,HMDS,浸泡,涂敷,熏蒸,都可以达到目的。plasma表面钝化处理也是常用的方法,形成碳基的钝化层,类似特富龙,疏水性很好。表面处理形成的薄膜会非常薄,都是纳米水平的。
15楼2014-05-17 16:07:26
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baoer410

铁杆木虫 (职业作家)

引用回帖:
14楼: Originally posted by kevin_yuan at 2014-05-17 15:34:23
我拿HF泡了,吹干后,接触角很小啊,目测大概30° ~ 45°左右,在我这个实验里肯定不够,起码要超过90°...

不是泡泡那么简单,前期你怎么处理,HF浓度多少,刻蚀多久。我做的时候水滴在硅片表面形成球形,接触角不会小于90度的。
16楼2014-05-17 16:15:52
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kevin_yuan

银虫 (初入文坛)

引用回帖:
15楼: Originally posted by yswyx at 2014-05-17 16:07:26
你买回来的硅片表面本身就是纳米级的粗糙度。国产硅片Ra是1~2nm,进口硅片一般是小于1nm。
单晶硅本身是疏水的,但是会有原生氧化层,所以会表现的亲水。用HF腐蚀掉原生氧化层,会表现出一定的疏水,但是在空气中 ...

多谢指导。

我把我从网上查到的理解的资料说一下,您看下是否有理解错误的地方。

先是清洗硅片,一般是去油脂(丙酮,乙醇,去离子水超声10min),双氧水+硫酸 加热浸泡去除有机物,使其羟基化,然后再使用偶联剂的醇溶液,浸泡,烘干(我没有烘干设备,氮气吹能替代么)?

另外,我买的偶联剂是16烷基三甲氧基硅烷,这个能不能用,一般和乙醇的配比是多少?

还有一个,如果获得了疏水表面,相当于给硅片表面改性了,是不是下次用只要按照清洗程序清洗硅片就行了,不用再做一次疏水处理了?

非常感谢您的帮助
17楼2014-05-17 16:23:04
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ledlau

木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
楼主试试用CMP化学机械抛光,使得硅片表面粗糙度足够低
一般来说越低疏水性越好
辛勤耕耘,收获知识,收获美好人生
18楼2014-05-17 20:13:19
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般木

铁杆木虫 (著名写手)

我是傻子

学习了

[ 发自小木虫客户端 ]
天若有情天亦老,人间正道是沧桑。
19楼2014-05-17 21:48:20
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spiderman504

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
做光刻的倒是有个简单的方法:
拿HMDS(没用过的话去问度娘)旋涂在硅片表面;
接着用热板或者烘箱100度烘干(2分钟左右),然后晾干就可以了。可以试一下。
由于您的签名过于个性,小木虫暂时无法显示。。。
20楼2014-05-18 14:53:42
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